第4章 雙工作臺研究完成(第2/2 頁)

可以完成的。

是要經過多次曝光處理的。

這也就意味著，在晶片製作過程中要進行多次對準操作(每次曝光都要更換不同的掩膜，掩膜與矽晶圓之間每次都要對準操作）。

可晶片的每個元件之間都只有幾奈米的間隔。

所以在這種情況下，掩膜與矽晶圓之間的對準誤差都必須控制在幾奈米範圍內。

一次對準可能相對來說比較容易，但晶片的製造需要多次曝光多次對準。

在曝光完一個區域之後，放置矽晶圓的曝光臺就必須快速進行移動，接著曝光下一個需要曝光的區域，想要在多次快速移動中實現奈米級別的對準，這個難度相當大。

可這些問題在王為的超級院士能力（定向）的光輝下，都不再是問題。

“非常完美，精度控制在10埃米（也就是一奈米）以下！”

恍若肩上的重擔卸下來是的，王為長長的舒了一口氣。

只要再將這個透過專利稽核，就可以拿到五天的壽命獎勵了。

就在這時，系統的提示音也如期而至。

“叮！短期科研方向：雙工作臺。”

“完成度：100％！”

“中期科研方向：1n光刻機。”

“完成度：333％！”

“現釋出新的短期科研方向：高拋光度物鏡鏡頭！”

“專利稽核透過獎勵壽命：1天！”

“研究成果獲得應用獎勵壽命：2天！”

……

接著又是一陣良久的沉默。

然而不在沉默中爆發，就在沉默中消亡！

“好傢伙，系統可真有你的啊！”

“獎勵沒到，先把下一個任務給我送過來了…”

“那些萬惡的資本家到你這來的話，說不定都得免費給你做苦力！”

做工不給錢，這是人乾的事嘛？

“叮！宿主，這是符合規則的…”

“已經說過必須要有專利及應用才可以得到壽命返還…”

“提前釋出短期科研任務也是符合流程的…”

“況且，早得到任務就可以早一些投入研究中不是嗎？”

雖然這麼一聽，系統好像確實是為他著想一樣。

可是王為卻怎麼都不得勁。

眾所周知，光刻機三大難點。

分別是雙工作臺，光源以及鏡片。

前身做的工作就是與雙工作臺有關的，所以耗費的時間少。

大概從一片空白到全部結束，只花費了五個小時的樣子。

可接下來的這個1n光刻機物鏡鏡頭他卻毫無頭緒。

對於光學領域的高階知識他只瞭解一點而已。

可以說真的是從零開始。

剩下大約兩天半的壽命不一定夠。

當然，這只是王為預估計的。

所以保險起見，還是得趕快出去把那已經完成的一天壽命的獎勵領到。

這樣他才能專心的搞科研工作。

“轉換清醒時間！”

隨著心念一動，黑暗的系統空間上方突然逐漸白化。

由上到下，就像褪去了一層黑色的外皮一樣。

“哎對了，系統，我今天沒用完的時間可以餘下留到別的時間用嗎？”

“叮！一旦拆封，概不退換！”

“倒計時半小時開始！”

“2959！”

“2958！”