第4章 雙工作臺研究完成(第2/2 頁)
可以完成的。
是要經過多次曝光處理的。
這也就意味著,在晶片製作過程中要進行多次對準操作(每次曝光都要更換不同的掩膜,掩膜與矽晶圓之間每次都要對準操作)。
可晶片的每個元件之間都只有幾奈米的間隔。
所以在這種情況下,掩膜與矽晶圓之間的對準誤差都必須控制在幾奈米範圍內。
一次對準可能相對來說比較容易,但晶片的製造需要多次曝光多次對準。
在曝光完一個區域之後,放置矽晶圓的曝光臺就必須快速進行移動,接著曝光下一個需要曝光的區域,想要在多次快速移動中實現奈米級別的對準,這個難度相當大。
可這些問題在王為的超級院士能力(定向)的光輝下,都不再是問題。
“非常完美,精度控制在10埃米(也就是一奈米)以下!”
恍若肩上的重擔卸下來是的,王為長長的舒了一口氣。
只要再將這個透過專利稽核,就可以拿到五天的壽命獎勵了。
就在這時,系統的提示音也如期而至。
“叮!短期科研方向:雙工作臺。”
“完成度:100%!”
“中期科研方向:1n光刻機。”
“完成度:333%!”
“現釋出新的短期科研方向:高拋光度物鏡鏡頭!”
“專利稽核透過獎勵壽命:1天!”
“研究成果獲得應用獎勵壽命:2天!”
……
接著又是一陣良久的沉默。
然而不在沉默中爆發,就在沉默中消亡!
“好傢伙,系統可真有你的啊!”
“獎勵沒到,先把下一個任務給我送過來了…”
“那些萬惡的資本家到你這來的話,說不定都得免費給你做苦力!”
做工不給錢,這是人乾的事嘛?
“叮!宿主,這是符合規則的…”
“已經說過必須要有專利及應用才可以得到壽命返還…”
“提前釋出短期科研任務也是符合流程的…”
“況且,早得到任務就可以早一些投入研究中不是嗎?”
雖然這麼一聽,系統好像確實是為他著想一樣。
可是王為卻怎麼都不得勁。
眾所周知,光刻機三大難點。
分別是雙工作臺,光源以及鏡片。
前身做的工作就是與雙工作臺有關的,所以耗費的時間少。
大概從一片空白到全部結束,只花費了五個小時的樣子。
可接下來的這個1n光刻機物鏡鏡頭他卻毫無頭緒。
對於光學領域的高階知識他只瞭解一點而已。
可以說真的是從零開始。
剩下大約兩天半的壽命不一定夠。
當然,這只是王為預估計的。
所以保險起見,還是得趕快出去把那已經完成的一天壽命的獎勵領到。
這樣他才能專心的搞科研工作。
“轉換清醒時間!”
隨著心念一動,黑暗的系統空間上方突然逐漸白化。
由上到下,就像褪去了一層黑色的外皮一樣。
“哎對了,系統,我今天沒用完的時間可以餘下留到別的時間用嗎?”
“叮!一旦拆封,概不退換!”
“倒計時半小時開始!”
“2959!”
“2958!”
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